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TASLimage固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)
產(chǎn)品簡(jiǎn)介

TASLimage固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)適用于中子測(cè)量、氡濃度監(jiān)測(cè)、聚變研究、α粒子放射自顯影、鈾礦勘探、宇宙射線以及放射領(lǐng)域教學(xué)。

產(chǎn)品型號(hào):
更新時(shí)間:2025-08-19
廠商性質(zhì):經(jīng)銷商
訪問量:1356
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TASLimage固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)TASLimage是基于核徑跡分析技術(shù)發(fā)展的高性能全自動(dòng)圖像測(cè)量及分析系統(tǒng),用于測(cè)量及分析各類塑料徑跡探測(cè)器,例如TASTRAK(TASL公司生產(chǎn))、CR39、PN3。系統(tǒng)的顯微鏡模塊采用了高質(zhì)量Nikon光學(xué)器件和超快3D機(jī)動(dòng)控制系統(tǒng),保證了系統(tǒng)的高測(cè)量效率、高精度及低本底等優(yōu)異性能。系統(tǒng)適用于中子測(cè)量、氡濃度監(jiān)測(cè)、聚變研究、α粒子放射自顯影、鈾礦勘探、宇宙射線以及放射領(lǐng)域教學(xué)。


TASLimage固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)特點(diǎn):

1. 全自動(dòng)聚焦,全自動(dòng)掃描點(diǎn)碼和蝕刻徑跡;

2. 全自動(dòng)測(cè)讀批量探測(cè)器;

3. 快速測(cè)讀,測(cè)讀時(shí)間為30~60秒(與參數(shù)設(shè)置相關(guān));

4. 自動(dòng)修正探測(cè)器響應(yīng)衰退,保證探測(cè)器可用于12個(gè)月的長(zhǎng)期監(jiān)測(cè);

5. 高度精密的圖像分析技術(shù),可區(qū)分徑跡與本底特征;

6. 全自動(dòng)本底評(píng)估(對(duì)每個(gè)探測(cè)器);

7. 掃描數(shù)據(jù)自動(dòng)轉(zhuǎn)換為中子劑量/氡濃度;

8. 數(shù)據(jù)可導(dǎo)出excel文件。


?技術(shù)指標(biāo):

TASLimage固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)

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TASLimage固體徑跡蝕刻測(cè)量系統(tǒng)

  TASTRAK核徑跡探測(cè)器



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